硅片晶圓超聲波清洗機的工作原理是利用超聲波在液體中的空化作用、加速度作用及直進流作用對液體和污物直接、間接的作用，使污物層被分散、乳化、剝離而達到清洗目的。

具體來說，超聲波清洗機通過換能器將電能轉(zhuǎn)化為機械振動，這種振動以聲波的形式在清洗液中傳播。當聲波的頻率和硅片晶圓的振動頻率共振時，機械作用力達到最大，泡內(nèi)聚集的大量熱能，使溫度升高，促進化學反應(yīng)的發(fā)生。

此外，兆聲波清洗的機理是由高能頻振效應(yīng)并結(jié)合清洗劑的化學反應(yīng)對硅片進行清洗。在清洗時由換能器發(fā)出波長為兆赫級高能聲波，溶液分子在這種聲波的推動下作加速運動，最大瞬時速度可達到30cm/s，由于頻率過高，不能形成超聲波清洗那樣的空化氣泡，而只能以強的聲壓梯度、聲流作用產(chǎn)生的高速流體力學層連續(xù)沖擊基片表面，使基片表面附著的微粒被強制除去并進入到媒液中。

超聲波清洗機可以清洗的硅片晶圓物品包括但不限于以下幾種：

1. 半導體晶圓：半導體晶圓是制造集成電路、晶體管等電子器件的基本材料。在制造過程中，晶圓表面會受到各種污染物的污染，如顆粒、有機物、金屬離子等。超聲波清洗機可以通過清洗去除這些污染物，保證晶圓的清潔度和質(zhì)量。
2. 光學元件：光學元件如鏡頭、濾光片等需要保持表面的光潔度，以實現(xiàn)良好的光學性能。超聲波清洗機可以通過清洗去除表面的污漬、油脂等污染物，提高元件的光學性能。
3. 金屬零件：金屬零件在制造過程中會受到各種污染物的污染，如油污、銹跡、金屬離子等。超聲波清洗機可以通過清洗去除這些污染物，保證金屬零件的清潔度和質(zhì)量。
4. 陶瓷制品：陶瓷制品如電子管、瓷片等表面容易受到污染，超聲波清洗機可以通過清洗去除表面的污漬、灰塵等污染物，提高制品的光潔度和絕緣性能。
5. 其他表面精密清洗：超聲波清洗機還可以用于其他表面精密清洗，如電子元器件、機械零件、醫(yī)療器材等。

需要注意的是，不同的物品需要使用不同的清洗液和清洗方式，以避免對物品造成損害。此外，在使用超聲波清洗機時，還需要注意控制清洗時間和溫度，以避免對物品造成過度清洗或損壞。

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